解决了光刻机，还有光刻胶被卡着，大陆制造芯片就是这么困难！

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说起芯片制造，众多网友都知道中国大陆是相对比较落后的，最先进的地方是中国台湾，因为其有台积电的存在，按照双方制程目前的差距，至少是4年以上。
不过也有很多人觉得，芯片制造最大的困扰是光刻机，只要中国能够买到最先进的光刻机，造出什么7nm、5nm芯片并不难。
但事实真的如此，只怕并不是的，先要说的是技术，并不是有光刻机，就能够生产7nm，5nm的芯片了，比如三星是ASML的股东，买台7nm的光刻机没点问题，到现在也生产不了7nm芯片，转而先生产8nm。
对中国大陆也是一样，有了光刻机，技术没上来一样没用，并且不仅如此，还有光刻胶也是被国外卡着的，有了技术，有了光刻机都没用。
光刻胶是芯片制造中必不可少的材料之一。今年1月份，台积电就因为使用了不合格的光刻胶而报废了上万片的晶圆，影响到了高通、华为、苹果等客户的芯片制造，自身损失也超5亿美元。
而目前对我们来讲，半导体用的光刻胶严重依赖进口，据网上数据显示，国产率不到5%，核心技术基本被日本和美国的企业垄断，陶氏化学、 JSR 株式会社、信越化学、东京应化工业、 Fujifilm，以及韩国东进等企业。
关键是还不是你有钱就一定能买到，产能有限，对方会优先卖给台积电这样的客户，只有等其他厂商用剩余了才卖给你。
当然目前国内这一块也在迅速的发展之中，国内厂商也掌握了一些技术，只是高端技术方面还差一点火候，需要点时间。
所以说制造芯片并不是只有光刻机这么简单，还有诸多环节要努力的，也这是目前中国大陆之所以落后的原因。